常元滢多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统

纳瑞科技（北京）有限公司(Ion Beam Technology Co.,Ltd.)成立于2006年，是由在聚焦离子束（扫描离子显微镜）应用技术领域有着多年经验的技术骨干创立而成。

多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统是一种在材料制备领域具有广泛应用前景的技术。离子束溅射技术可以通过高温和高能离子束将金属或非金属材料溅射成薄膜或晶体。话说回来, 传统的离子束溅射系统存在一些限制,例如高能离子束对被沉积材料的选择性、沉积速率慢、沉积过程中的能量耗散等。

磁控溅射技术是一种新型的离子束溅射技术,通过在溅射过程中施加一个磁场,可以控制离子束的聚焦和偏转,从而实现对被沉积材料的高效选择性溅射。在磁控溅射系统中,离子束经过一个由永久磁铁制成的磁极,并被偏转以产生聚焦。通过控制磁场和离子束的聚焦和偏转,可以在所需的位置沉积出所需的材料。

多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统具有以下优点:

1.高效选择性:磁控溅射技术可以控制离子束的聚焦和偏转,从而实现对被沉积材料的高效选择性。

2.沉积速率快:由于离子束被聚焦,因此沉积速率可以提高。

3.能量耗散低:在磁控溅射过程中,能量耗散较低,因此可以减少能量的浪费。

4.沉积质量好:由于离子束被聚焦,沉积质量可以提高。

多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统可以应用于许多领域,例如制备半导体器件、太阳能电池、发光二极管等。此外,该系统还可以应用于生物医学领域,例如制备药物薄膜和生物传感器的制备。

多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统是一种具有广泛应用前景的技术。通过控制磁场和离子束的聚焦和偏转,可以在所需的位置沉积出所需的材料,具有高效选择性、沉积速率快、能量耗散低和沉积质量好等优点。多功能磁控与离子束联合溅射沉积系统可以应用于许多领域,例如制备半导体器件、太阳能电池、发光二极管等,也可以应用于生物医学领域,用于制备药物薄膜和生物传感器等。